洗浄表面改質装置
UVオゾン洗浄表面改質装置
低圧水銀ランプから発せられる184.9nmと253.7nmの紫外線により、有機物の除去と表面の改質が行われます。コーティング前の濡れ性向上や接着性向上に最適なR&D用小型装置から生産用装置、その他評価装置やオゾン分解装置などの付随品までを一通りご提供いたします。
エキシマ照射装置
172nmの紫外線を主波長とするエキシマ照射装置による表面改質。RF(高周波）放電のランプを採用している為、ちらつきの少ない安定した出力。また平面型ランプの採用で、大面積で均一な照射を実現しています。
